被炮击的资料称为靶。因为离子易于在电磁场中加快或偏转，所以荷能粒子通常为离子，这种溅射称为离子溅射。溅射镀膜有两种办法：一种称为阴极溅射，首要运用低压气体放电景象，使处于等离子状况下的离子炮击靶面，溅射出的粒子堆积在基片上。另一种称为离子束溅射，指真空状况下用离子束炮击靶外表，使溅射出的粒子在基片外表成膜。

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